淺談專利撰寫的清楚性及完整性 董立閩 在專利申請過程中，申請文件的撰寫質(zhì)量不僅會影響到保護范圍、是否能得到授權(quán)，還會影響到其未來權(quán)利的穩(wěn)定性。所謂申請文件的撰寫質(zhì)量高，是指該申請文件不但能夠達到申請專利的基本目的，即，使專利成為有效打擊競爭對手和防護自己的武器，以達到增強市場競爭的實力等商業(yè)目的，還能夠有效阻止在后專利的成立或阻止在后專利所支持的產(chǎn)品或技術(shù)與自己進行市場搶奪。然而，盡管申請人希望得到高質(zhì)量的申請文件，但在代理實踐中經(jīng)常發(fā)現(xiàn)由于撰寫者的技術(shù)經(jīng)驗或法律經(jīng)驗等的不足而導(dǎo)致申請文件存在一些缺陷，而其中的某些缺陷會影響到申請人獲得權(quán)利或?qū)嵤?quán)利。 例如，目前國內(nèi)撰寫的申請文件在對技術(shù)方案進行論述時普遍存在清楚性及完整性不夠的缺陷。但在申請文件的撰寫中，對技術(shù)方案清楚、完整的論述是最基本的要求，也是必須嚴加重視的要求之一。 專利法第二十六條第三款中明確規(guī)定，“說明書應(yīng)當(dāng)對發(fā)明或?qū)嵱眯滦妥鞒銮宄?、完整的說明”。 根據(jù)專利法實施細則第六十四條的規(guī)定，說明書不滿足專利法第二十六條第三款中有關(guān)說明書的清楚、完整的規(guī)定可以作為申請專利無效的理由，表明如果申請文件中存在此類缺陷，即使當(dāng)時授權(quán)了，該缺陷也會是影響該申請文件未來權(quán)利穩(wěn)定性的因素之一。 另外，專利法第三十三條規(guī)定，“對發(fā)明和實用新型專利申請文件的修改不得超出原說明書和權(quán)利要求書記載的范圍”，因此，如果提交的申請文件在清楚性及完整性上出現(xiàn)問題，則通常是無法彌補的，撰寫人必須確保提交時的申請文件已對技術(shù)方案進行了清楚、完整的論述。 那么，申請文件撰寫到什么程度才算是清楚、完整呢？專利法第二十六條給出了認定的標準“以所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為準”。審查指南第二部分第二章也針對何為清楚、何為完整、何為能夠?qū)崿F(xiàn)進行了具體的規(guī)定。 以半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的專利申請文件為例，通常滿足撰寫的清楚、完整性要求的申請文件會對技術(shù)方案中涉及到的各步工藝都給出清楚、詳細的描述，包括：從功能、原理上對各步工藝的相關(guān)基本知識進行解釋；對涉及到的各個工藝步驟，無論是否與發(fā)明點相關(guān)，均列出詳細的參數(shù)列表；以及，對于各個工藝步驟中存在的可能的替代方案進行適當(dāng)?shù)年U述。 這樣寫的好處是顯而易見的：一則，技術(shù)方案的論述非常清楚、完整，所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員依據(jù)說明書中的內(nèi)容，能夠在不付出創(chuàng)造性勞動的基礎(chǔ)上輕易實現(xiàn)；二則，便于理解，減少歧義。其對技術(shù)方案的論述可以詳細到令一個對微電子專業(yè)不太了解的人（如法官）也可以從申請文件中找到較多的、利于其理解該技術(shù)方案的內(nèi)容，減少了對該技術(shù)方案理解的難度，這對于獲得權(quán)利及維護權(quán)利都很有好處。 然而，目前國內(nèi)撰寫的申請文件中，即使是由專利代理人撰寫的申請文件，由于多種原因的存在，還是經(jīng)常會出現(xiàn)撰寫不夠清楚或不夠完整的問題，從申請人的角度考慮，主要有以下幾種情況存在： （1）由于申請人未理解專利申請文件清楚、完整的重要性，怠于為專利代理人提供足夠的技術(shù)資料； （2）申請人出于保密的考慮，將技術(shù)方案中的部分內(nèi)容隱瞞起來，僅提供一個大致的想法，導(dǎo)致在申請文件中公開的技術(shù)方案不能由所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員實現(xiàn)，不滿足專利申請中有關(guān)清楚、完整的要求； （3）由于申請人對自己使用的技術(shù)相當(dāng)?shù)厥煜?，將技術(shù)方案中涉及到的大部分信息都當(dāng)作現(xiàn)有技術(shù)，認為不需要進行詳細介紹。 對于第一種情況，專利代理人應(yīng)該對申請人闡明清楚、完整對一篇專利申請文件的重要性，說服發(fā)明人提供足夠的技術(shù)資料。 對于第二種情況，可以具體分析，如果隱瞞申請人希望保密的內(nèi)容僅會使效果不是最佳，但仍可以令申請文件具有專利的三性――實用性、新穎性及創(chuàng)造性，且所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員也能依據(jù)文件中的描述而實現(xiàn)，那么專利代理人在撰寫申請文件時可以對技術(shù)方案的該部分作保密處理。反之，如果不能滿足上述要求，則專利代理人需要說服申請人公開該部分內(nèi)容或放棄該專利申請。 例如，一項申請的發(fā)明點本身在于工藝中采用了一種新的氣體，提高了形成的材料的性能，但申請人卻將該新的氣體作為保密內(nèi)容不愿意透露該氣體的具體名稱。此時，專利代理人可以與申請人進一步交流，詢問是該新的氣體的哪種特性在提高材料性能方面起到了主要的作用，是否能由某一類氣體實現(xiàn)。 A、如果能（雖然可能存在性能提高有限或成本較高等缺點），則可以在申請文件中僅提出該類氣體，并舉出非最佳的幾種氣體（最佳氣體可以進行保密），這樣，既可以滿足專利的三性要求及所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)的要求，又可以按申請人的要求實現(xiàn)對關(guān)鍵內(nèi)容的保密。但需要告知申請人，如果此后競爭對手申請了對該最佳氣體的專利保護，則可能會令申請人自己陷入被動之中：不但不能限制對手使用該最佳氣體，還可能因?qū)Ψ剿鶕碛械膶＠麢?quán)而受到限制。 B、如果該材料性能的改進只能由一種特定的氣體實現(xiàn)，則專利代理人應(yīng)該進一步與申請人溝通，闡明為滿足專利的三性要求及所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)的要求，必須在申請文件中指出該特定氣體。若申請人仍堅持不公開該特定氣體，則最好建議申請人放棄對該技術(shù)方案的專利申請，而將該技術(shù)方案按商業(yè)秘密等其它方式進行保護。因為，此時即使申請了對該技術(shù)方案的專利保護，但因其申請文件中公開的內(nèi)容不足以解決技術(shù)問題（提高材料性能），或所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員不能夠依據(jù)申請文件中的內(nèi)容實現(xiàn)，該申請文件仍不能滿足專利法對申請文件清楚、完整的要求。一方面該申請文件難以獲得授權(quán)，另一方面即使獲得了獲權(quán)，其未來的權(quán)利也不夠穩(wěn)定，易被競爭對手無效掉，難以真正實現(xiàn)對技術(shù)方案的保護，反而可能在公開申請文件后給競爭對手以技術(shù)啟示。 對于第三種情況，專利代理人應(yīng)該與申請人進一步溝通，說明應(yīng)站在所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員的角度對技術(shù)方案進行闡述，一些申請人認為簡單的情況，其實在本領(lǐng)域中仍存在多種其它可能的實現(xiàn)方法，只是申請人未采用或不適用于該技術(shù)方案而已，如果不具體說明技術(shù)方案中相關(guān)的內(nèi)容，可能會導(dǎo)致所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員無法根據(jù)申請文件的內(nèi)容實現(xiàn)該技術(shù)方案，從而導(dǎo)致申請文件具有不完整或不清楚的缺陷。 此外，還要注意到撰寫時確保申請文件具有清楚、完整性并不意味著要對技術(shù)方案各個方面的各個細節(jié)都做出詳細論述，還是應(yīng)該有個度，否則可能會出現(xiàn)過猶不及的問題。 筆者認為，對技術(shù)方案的發(fā)明點應(yīng)進行盡可能詳細、全面的論述；對可能影響該技術(shù)方案能否實現(xiàn)的相關(guān)內(nèi)容也要做出具體的描述；但是，對于與技術(shù)方案能否實現(xiàn)關(guān)系不大、且可以采用多種方法中的任一種實現(xiàn)的內(nèi)容，則可以略寫。如可以將其作為現(xiàn)有技術(shù)，僅提到在技術(shù)方案中也可以適用什么方法或什么結(jié)構(gòu)即可。 例如，一個技術(shù)方案的發(fā)明點在于對沉積工藝的工藝條件進行改進，以得到更為均勻的薄膜。此時，圍繞該沉積工藝要進行盡可能詳細、全面的描述：如，說明本技術(shù)方案中所用的沉積設(shè)備的結(jié)構(gòu)、原理等，沉積薄膜時所用的各種反應(yīng)氣體、載氣體等；列出沉積時所選用的各工藝條件（如溫度、氣壓、功率等）及原因，沉積過程中各工藝條件的改變對薄膜沉積質(zhì)量的影響等等。 其中，由于該技術(shù)方案的發(fā)明點在于沉積工藝條件的改進，除了對改進了的工藝條件要進行格外詳細的論述外，還可以進一步分析為何要對該工藝條件進行改進，該改進的原理、趨勢，以及該改進可以帶來的各種好處等等，最好還要列出改進前、后的效果對比數(shù)據(jù)。 不過，對于該技術(shù)方案中在沉積時所用的襯底的相關(guān)知識的描述是否也用具體到如此程度呢？沉積中所用的襯底也是在描寫該技術(shù)方案時必不可少地要引入的內(nèi)容，對它的描述是否也要象描述沉積工藝一樣，從結(jié)構(gòu)、原理等基本的相關(guān)知識開始介紹？如，如何利用拉晶等方式形成襯底，其的結(jié)構(gòu)有什么特點（如其晶向等），它在沉積前可能已形成的內(nèi)部結(jié)構(gòu)具體是如何形成的等等。 筆者認為如果上述問題對本發(fā)明的技術(shù)方案能否實現(xiàn)關(guān)系不大，對其的介紹是不需要具體到如此程度的。可以將其視為公知常識，只提到本技術(shù)方案夠用的信息量（如本技術(shù)方案中可以適用的襯底，及襯底上可以具有的結(jié)構(gòu)等），其余的不用寫太多。如果對于這一類的知識點也進行如發(fā)明點般具體詳細的介紹，一方面會降低撰寫的效率；另一方面對審查員或法官理解技術(shù)方案本身的幫助并不大，反而可能會導(dǎo)致發(fā)明點不突出，需要在幾十頁的文件中去尋找技術(shù)方案中真正有關(guān)創(chuàng)新的地方。 總之，在撰寫專利申請文件時，務(wù)必要重視所描述的技術(shù)方案的清楚性及完整性，并注意對其詳細程度的把握，只有滿足了這一點的專利申請文件才可能算是合格的申請文件，也只有在實現(xiàn)了這一點的前提下才有可能撰寫出真正高質(zhì)量的申請文件。